本节是关于总场散射场光源设置的介绍。
在研究散射场的问题时,可以使用总场散射场(Total-Field Scattered-Field, TFSF)光源直接获取散射场。
在求解器选项卡中选择TFSF,在复合视图中创建TFSF光源,在自动弹出的编辑属性界面中设置参数。
在FDTD中,TFSF光源将计算区域分为两个不同的区域:
TFSF光源通常用于研究散射问题和天线问题。典型用途包括:
TFSF光源是高级光源,用户必须根据本说明确定光源设置的合理性,从而保证所得结果的正确性,否则错误设置可能导致结果错误。
General选项卡用于设置光源的注入轴和振幅等信息。
Name | Description |
---|---|
Incident axis | 下拉选择TFSF光源的注入轴。 |
Direction | TFSF光源的传播方向,Forward为正向传播,Backward为反向传播。 |
关于TFSF光源振幅、相移和旋转的设置,请参阅光源的通用设置。
Geometry标签页用于设置光源的几何尺寸,请参阅光源的几何尺寸设置。
Polarization标签页用于设置光源偏振。
Name | Description |
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Linear polarization(θ) | 线性偏振的偏振角。 |
Wavelength/Frequency标签页用于设置光源的波长/频率信息,请参阅光源的波长/频率设置。
用户在使用TFSF光源时应当遵循以下注意事项,以避免TFSF光源设置中的常见错误,确保仿真结果的准确性和可靠性。
在添加TFSF光源时,请确保以下条件:
下文中展示了一个有效设置示例和一个无效设置示例。
有效注入:光源的波矢垂直于金层和玻璃层。光源的每一面沿传播方向(从注入面到端面)“看到”相同的折射率分布(空气-金-玻璃)。
无效注入:光源的波矢与基板不垂直。光源的上方“看到”空气的折射率,而下方“看到”衬底的折射率。
TFSF光源的内部结构,我们可以分为以下两种情况:
以下将对上文中的两种情况进行详细描述:
1. 对于TFSF光源内部仅有一种介质,TFSF光源支持任意角度入射,在斜入射时,必须使用均匀网格以避免大的数值误差。
建议用户在进行斜入射仿真前,可先禁用材料结构以检查TFSF光源设置是否正确,再进行下一步仿真。两者的仿真结果如下图中所示。禁用结构后,TFSF光源在真空中传播,电场只集中分布在TFSF区域内(即总场内),散射场几乎为0。
2. 对于多层材料仿真,目前仅支持正入射仿真。一般情况下,通过基板的传播场无法穿过TFSF光源边界进入散射场区域。例如,在上图中的空气-金-玻璃层的仿真中,入射光被金层反射且被TFSF边界吸收,电磁场无法进入散射场区域。
如果在金层中间增加一个间隙,散射光可以通过间隙进入散射场区域。该间隙视为散射体,应完全位于TFSF光源内部。
目前TFSF光源支持正入射角度下的非均匀网格仿真,但为了确保仿真精度和稳定性,建议用户使用均匀网格(即各方向网格尺寸dx、dy、dz相等)。若TFSF光源仿真出现异常或错误,请先检查网格尺寸是否均匀。
一般情况下,TFSF光源不应跨越仿真区域边界,下面2种情况除外:
使用TFSF光源研究介质球的米氏散射,相关内容请参阅介质球的米氏散射,工程为:
仿真结束后,提取散射场(TFSF光源包围空间外的场),使用远场分析,即可得到极坐标图、辐射图: